汎用箔の光沢面に粗化処理を行うことで、汎用箔でありながら粗さが抑えられています(台湾製)。

特長

  • 汎用箔の光沢面に粗化処理を行うことで、汎用箔でありながら粗さが抑えられています。

代表的な用途

  • ルーター・スイッチ・サーバー等の情報通信機器

仕様

DGTSEU2-MP

箔厚 [µm] 12

18

35

引張強さ [MPa] 340 320 300
伸び [%] 9 12 20
表面粗さRz [µm] 3

用途別銅箔一覧

用途 品種 プロファイル 厚み(μm)
9 12 18 35 70 105~
高周波基板

FPR-WS(開発中)

H-VLP5            
H-VLP4   ○ ○ ○    
H-VLP3   ○ ○ ○    
H-VLP2   ○ ○ ○    
H-VLP   ○ ○ ○    
RTF2   ○ ○ ○ ○  
フレキシブルプリント基板 VLP ○ ○ ○ ○ ○  
VLP   ○ ○      
パッケージ基板 VLP ○ ○ ○ ○ ○  
RTF   ○ ○ ○ ○  
一般箔   ○ ○ ○ ○  
高密度多層基板 VLP ○ ○ ○  ○ ○  
一般箔   ○ ○ ○ ○  
大電流基板 一般箔           ○(~210μm)