汎用箔の光沢面に粗化処理を行うことで、汎用箔でありながら粗さが抑えられています(台湾製)。

特長

  • 汎用箔の光沢面に粗化処理を行うことで、汎用箔でありながら粗さが抑えられています。

代表的な用途

  • ルーター・スイッチ・サーバー等の情報通信機器

仕様

DGTSEU2-MP

箔厚 [µm] 12

18

35

引張強さ [MPa] 340 320 300
伸び [%] 9 12 20
表面粗さRz [µm] 3

用途別銅箔一覧

用途 品種 プロファイル 厚み(μm)
9 12 18 35 70 105~
高周波基板

FPR-WS(開発中)

H-VLP5            
H-VLP4      
H-VLP3      
H-VLP2      
H-VLP      
RTF2    
フレキシブルプリント基板 VLP  
VLP        
パッケージ基板 VLP  
RTF    
一般箔    
高密度多層基板 VLP ○   
一般箔    
大電流基板 一般箔           ○(~210μm)