汎用箔の光沢面側に低粗化処理を施すことにより、通常RTFタイプよりも低伝送ロスを実現しております(台湾製)。

特長

  • 低粗化処理にすることで、RTFより高周波特性を向上させました。

代表的な用途

  • ルーター・スイッチ・サーバーなどの情報通信機器用基板

仕様

箔厚 [µm]

18

35

引張強さ [MPa] 330 300
伸び [%] 17 22
表面粗さRz [μm] 2.0 2.0

用途別銅箔一覧

用途 品種 プロファイル 厚み(μm)
9 12 18 35 70 105~
高周波基板

FPR-WS(開発中)

H-VLP5            
H-VLP4      
H-VLP3      
H-VLP2      
H-VLP      
RTF2    
フレキシブルプリント基板 VLP  
VLP        
パッケージ基板 VLP  
RTF    
一般箔    
高密度多層基板 VLP ○   
一般箔    
大電流基板 一般箔           ○(~210μm)