汎用箔の光沢面側に低粗化処理を施すことにより、通常RTFタイプよりも低伝送ロスを実現しております(台湾製)。

特長

  • 低粗化処理にすることで、RTFより高周波特性を向上させました。

代表的な用途

  • ルーター・スイッチ・サーバーなどの情報通信機器用基板

仕様

箔厚 [µm]

18

35

引張強さ [MPa] 330 300
伸び [%] 17 22
表面粗さRz [μm] 2.0 2.0

用途別銅箔一覧

用途 品種 プロファイル 厚み(μm)
9 12 18 35 70 105~
高周波基板

FPR-WS(開発中)

H-VLP5            
H-VLP4   ○ ○ ○    
H-VLP3   ○ ○ ○    
H-VLP2   ○ ○ ○    
H-VLP   ○ ○ ○    
RTF2   ○ ○ ○ ○  
フレキシブルプリント基板 VLP ○ ○ ○ ○ ○  
VLP   ○ ○      
パッケージ基板 VLP ○ ○ ○ ○ ○  
RTF   ○ ○ ○ ○  
一般箔   ○ ○ ○ ○  
高密度多層基板 VLP ○ ○ ○  ○ ○  
一般箔   ○ ○ ○ ○  
大電流基板 一般箔           ○(~210μm)