0.1μm程度の超微細な粗化粒子により、最高水準の低伝送ロスを実現しています。

特長

  • 極めて小さな粗化粒子と表面処理により、非常に優れた密着力と低伝送ロスを有しています。

代表的な用途

  • ハイエンドサーバー・ルーター・スイッチなどの高速情報通信機器用基板

仕様

F0X-WS

箔厚 [µm] 12 18 35
引張強さ [MPa] 310 310 310
伸び [%] 7 9 19

表面粗さRz [μm]

1.0 0.9 0.8

用途別銅箔一覧

用途 品種 プロファイル 厚み(μm)
9 12 18 35 70 105~
高周波基板

FPR-WS(開発中)

H-VLP5            
H-VLP4      
H-VLP3      
H-VLP2      
H-VLP      
RTF2    
フレキシブルプリント基板 VLP  
VLP        
パッケージ基板 VLP  
RTF    
一般箔    
高密度多層基板 VLP ○   
一般箔    
大電流基板 一般箔           ○(~210μm)